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  • 研削・研磨材製品
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    エレクトロニクス用超精密研磨材

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    精密研磨材 SiC、GaNなどの 半導体ウェハーを高い平坦度で研磨

    精密研磨材 SiC、GaNなどの 半導体ウェハーを高い平坦度で研磨

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    先端半導体基板のラップ研磨の改善によりCMP工程コストを抑制

    • 3Mのエレクトロニクス用精密研磨材は、半導体、電子デバイスやSiCウェハー(シリコンカーバイド)、GaN(窒化ガリウム)ウェハー、Ga2O3(酸化ガリウム)ウェハーなどのパワー半導体用基板研磨、サファイア基板、石英、セラミック基板、ガラス基板の研磨工程で使用され、難削材料、脆弱材料のラッピング、ポリッシングの工程をより速い研磨レートで且つ低ダメージ・低表面粗さで平坦性高い仕上げを実現します。

      3Mのエレクトロニクス用精密研磨材の特長は、3M™ トライザクト™ 精密研磨材に代表される、研磨材表面に3M独自技術を用いた立体構造を持つ研磨材です。立体構造体を形成することにより、研磨時に発生する研磨カスが底部に落ち込み排出されますので、被研磨物の表面を傷つけるリスクが減り、被研磨物表面の低ダメージ・低表面粗さを実現しますので、CMP工程でのダメージ除去に要する研磨加工時間を削減し、生産性を向上させることが可能です。


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    3M™ トライザクト™ 精密研磨材の特長

    より速く、より低ダメージ、良好な表面粗さと高い平坦性を実現し生産工程の生産性を大きく改善
    立体構造体を研磨材表面に持たせることで、研磨カスが底部から排出されることでカスによるダメージを減らし、また常に新たな砥粒が構造体から露出することで目詰まりを起こさず、安定した研磨レートを実現します。お客様の研磨のタクトタイムを短縮し、必要な消耗品コストの削減に貢献いたします。

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    3M™ トライザクト™ 精密研磨材の特長
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    3M™ トライザクト™ 製品 ラインナップ


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    3M™ トライザクト™ ダイヤモンドタイル 使用方法


    3Mは、お客様からのご質問に答え、サンプル提供、データの提供などについて、グローバルなサポートを提供します。 是非お問い合わせください。

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