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3M™ ダイヤモンドパッドコンディショナ―

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CMPのパッドライフとディスクライフの長寿命化に最適です。

パッドライフとディスクライフの長寿命化により、メンテナンスの回数を減らし、コストオブオーナーシップの改善に貢献します。

化学的結合と機械的結合の両方でダイヤモンドを基材に固定し、優れた保持力を有しています。

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CMP パッドコンディショナー コーティングが金属溶出を減らすことを示した図

3M™ CMPパッドコンディショナー 
コーティング

金属に敏感なプロセスに適したコンディショナーをお探しですか?3M™ CMPパッドコンディショナーコーティングは、パッドコンディショナーの上に耐久性のあるコーティングを行うことで、金属溶出を最大75%低減することができます。このコーティングシリーズを3Mの焼結技術と組み合わせることで、マイクロスクラッチおよびマクロのスクラッチなどのディフェクトをさらに抑制することが期待されます。

詳細

特長
  • CMPのパッドライフとディスクライフの長寿命化に最適です。
  • パッドライフとディスクライフの長寿命化により、メンテナンスの回数を減らし、コストオブオーナーシップの改善に貢献します。
  • 化学的結合と機械的結合の両方でダイヤモンドを基材に固定し、優れた保持力を有しています。
  • 樹脂基材を使用したコンディショナーでは、耐食性を有しています。
  • 幅広いラインナップから最適なコンディショナーを選定することができます。
  • 平坦度のコントロールされた3Mのパッドコンディショナーにより、パッドの摩耗の均一性とパッドの平坦性を向上します。

3M™ ダイヤモンドパッドコンディショナー Cシリーズは、化学的機械的平坦化(CMP)用にデザインされたパッドコンディショナーで、 半導体のCMPアプリケーションで信頼性の高いパフォーマンスを発揮します。

3M™ ダイヤモンドパッドコンディショナーは、パッドの摩耗が最小限に抑えられ、一貫性のあるアスピリティでウエハーが変わっても均一なパッド性能を維持することができます。3M™ ダイヤモンドパッドコンディショナーは、3M独自の焼結技術により、優れたダイヤモンド保持力を有しています。コントロールして配置された単層のダイヤモンド砥粒により、CMPパッドの状態を最適な状態に整え、CMPプロセスの効率化に貢献します。

Set of icons representing the recommended applications of Advanced Node, CMP, Hard Disk Manufacturing and Wafer Manufacturing

仕様

参考資料

関連製品

キャリア径 107.95 mm, 101.6 mm
CMPプロセス All, Oxide, Cu (Bulk), STI Process, W (Bulk), PMD/ILD, Cu (Barrier), W (Buff), Final Buff
ダイヤモンドサイズ 251 μm, 151 μm, 74 μm, 181 μm