CMP（Chemical Mechanical Polishing）とは、微細研磨剤を含む化学スラリー液と研磨による機械的な力を組み合わせることで、凹凸部分を平坦にする加工方法です。

3Mは、ハードディスクドライブメーカーがマイクロスクラッチや欠陥を減らし、より多くのプロセスの安定性と信頼性を提供できるよう、CMPろ過ソリューションを提供しています

お客様のメッキ液は、析出した金属表面の欠陥や不純物を防ぐために厳しいパーティクルコントロールを必要とします。

3Mは、プロセスの信頼性と安定性のためにあなたの電気めっきプロセスのニーズを満たすために、微粒子や汚染物質を除去し、浴寿命を延長するための粒子制御ソリューションを提供しています。

ハードディスクドライブの製造には大量の化学薬品が必要であり、必ず大量の廃水が発生します。

3Mは、微粒子/汚染物質の除去や低減を支援する粒子制御ソリューションを提供し、お客様の希望する仕様に適合した浴寿命を延ばすことができます。