シリコンウェハー製造プロセス を最適化する

ラッピングとポリッシングは、微細砥粒の化学的（酸性または塩基性）スラリーとポリッシングによる機械的な力を組み合わせることによって、凹凸部分を平らにする加工法です。スラリーの粒子径を厳密に制御することで、適切な表面仕上げが可能になります。

3Mは、研磨工程で使用されるスラリーの粒子径を制御するためのろ過ソリューションを持っており、ウエハーメーカーがこの業界に供給できるようにしています。

ウェットプロセスでは、ウエハーに溶液を浸す、浸漬する、吹き付けるなどの処理が行われます。デバイスの微細化が進む中、製造工程で使用される酸、塩基、溶媒の純度を確保することは、今後も重要な課題です。

ほとんどの酸、塩基からアルコール、エッチャントに至るまで、3Mはお客様の化学アプリケーションに適したフィルターを用意しています。

プロセス冷却水は、水冷式機器に循環しています。温度サイクル、空気の巻き込み、汚染物質、水質不良は、腐食、スケーリング、その他の問題を引き起こし、水冷式機器の適切な冷却を阻害したり、使用率を低下させる可能性があります。適切な水処理により、水冷式機器は使用中に最適な機能を発揮することができます。

3Mは、プロセス冷却水ループの汚染物質と巻き込みガスを制御し、より効率的で安定した運転を可能にするろ過およびガス管理ソリューションを提供しています。

ウエハーの製造には大量の水と化学薬品を使用するため、必ず大量の廃水が発生します。多くの異なる処理工程があるため、さまざまな廃水汚染物質が発生します。

3Mは、環境を保護し、ますます厳しくなる排出要件を満たすために、排水をろ過できるように設計されたろ過ソリューションを提供しています

3M™Liqui-Cel™分離膜モジュールは、コンパクトな設計で効率的な溶存ガス制御を提供します。互換性のある液体ストリームにガスを加えたり、溶存ガスやバブルを除去することができるこれらのガス移送装置は、中空糸膜技術を利用し、世界中の施設が操作効率、パフォーマンスを向上させ、製品品質を保護するのに役立っています。