マイクロエレクトロニクス業界向けフィルター

原水の入手先、プロセスの段階、廃水処理の方法を問わず、3M のフィルターソリューションは高品質で費用対効果の高いソリューションを提供し、お客様のオペレーションとプロセスをサポートします。

各プロセスに応じたソリューションをお探しの場合は、3Mの担当者にお問い合わせください。

お客様の製造工程は複雑です。半導体の製造、ディスプレイの組立、シリコンウェハーの製造など、3Mのフィルター製品群は、マイクロエレクトロニクス製造プロセスの上流から下流工程までサポートすることができます。

3Mのフィルターソリューションは、お客様の効率アップをサポートします。メンテナンスが簡単なフィルターソリューションは、マイクロエレクトロニクス製造の時間を短縮し、ダウンタイムを回避するのに役立ちます。3Mの技術のエキスパートが、お客様独自のろ過のニーズをお聞きし、費用対効果の高いソリューションで品質の維持向上を支援する解決策をご提案します。

3Mのフィルターソリューションは、高品質かつロングライフのフィルターを提供し、マイクロエレクトロニクス製造プロセスの各段階におけるプロセスと製品の一貫性を確保し、お客様の厳しい要件に対応できるよう支援します。

マイクロエレクトロニクス製造用に設計された3M のフィルターは、製造プロセスにおける粒子ろ過、ガス制御、持続可能な水管理のための高品質で費用対効果の高いソリューションを提供します。

半導体製造の成功は、汚染物質を減らすという重要なプロセスに帰結します。3Mのろ過・ガス搬送膜製品は、製造工程に確かな性能をもたらすのに役立ちます。

今日のマイクロエレクトロニクス産業のシリコンウエハーに対する要求を満たすには、より高いレベルのろ過性能が必要です。3Mのろ過ソリューションは、シリコンウェハーメーカーが電子・半導体製造プロセスの厳しい要件と必要なプロセス効率を満たすために役立ちます。

ディスプレイの製造では、プロセスのあらゆる段階でミスが許されません。信頼性と拡張性に優れた3Mのろ過ソリューションで、ディスプレイ製造工程を次のレベルに引き上げることができます。

再生可能エネルギー の需要が高まる中、高品質の太陽電池の生産に追いつく必要があります。3Mのフィルターは、高品質な結果を得るために、プロセスで高品質な水を使用することに役立ちます。

ハードディスクドライブの製造品質プロセスの重要な部分は、有害な汚染物質を排除することです。3Mのフィルターは、世界中のハードディスクドライブメーカーが、重要なアプリケーションのために高レベルのプロセスインテグリティを達成するのに役立っています。

セラミックコンデンサの製造方法と、不要な粒子を除去するためのろ過は、コンデンサの性能と最終的なマイクロ電子デバイスの性能に大きな影響を及ぼします。製造プロセスにおけるパーティクル分布の均一化には、3Mのフィルターソリューションが役立ちます。

ワイヤボードの製造には、多くの部品、手順、プロセスが含まれますが、信頼性の高い完成品を作るためには、これらすべてが正確に組み合わされなければなりません。3Mのフィルターソリューションは、ワイヤーボード製造が増大する性能ニーズを確実に満たすために役立ちます。

リチウムイオン電池の需要は高く、電子機器、ハイブリッド車、電気自動車（EV）などの需要に牽引され、今後も増え続けると予想されています。より軽く、より長持ちし、より信頼性の高いバッテリーを製造する能力を持つメーカーは、より優れた、より効率的な汚染制御を必要とします。3Mは、リチウムイオン電池の製造が高まる性能ニーズに確実に対応できるよう、ろ過ソリューションを提供します。

3M™ Liqui-Cel™分離膜モジュールは、20年以上にわたり、世界中で真空塔、強制通風脱気装置、脱酸素剤の置き換えに貢献してきました。3Mは、ソリューションが要件と期待を満たすよう協力することで、深い技術サポートとサービスによりお客様の溶存ガス制御プロジェクトをサポートします。