比類なき半導体製造プロセス、ハンドリングプロセス。
比類なき半導体製造プロセス、ハンドリングプロセス。

3Mはお客様の半導体製造プロセスに、高精細、高性能、生産効率をご提供いたします。

半導体製造プロセスおよびハンドリングプロセスの改善
  • 半導体製造プロセスおよびハンドリングプロセスの改善

    半導体製造プロセスおよびハンドリングプロセスに対し、3Mでは様々なソリューションをご用意しています。微細複製、ナノテクノロジー、成形などの分野における当社のノウハウにより、お客様の工程に必要な均一性、清潔性、精度を実現できるようにするソリューションを提供します。

    3Mは50年以上にわたり、お客様の工程の最初から最終仕上げまでをサポートする幅広い製品を提供してきました。このような材料としては、エッチングと成膜および化学機械研磨(CMP )に使用される材料、ならびにウェーハ加工用の表面仕上げ材、温度調整用熱媒体、熱管理用の液体、チップ輸送用のテープとリール、およびウェーハドーピングとイオン注入用の材料があります。

    3Mと提携すれば 、世界のどの国でもサポートを受けられるようになります。当社の技術者は、世界中の主な場所でいつでもお客様を支援できる態勢にあります。


CMPソリューション

  • 3M™ トライザクト™ CMPパッドは、CMP工程に予測可能で安定、一貫したパフォーマンスを提供するように設計されており、効率の向上、侵食の低減、生産性の向上を達成できます。3Mの成形、表面改質、マイクロレプリケーション技術を利用することで、アドバンスノードのCMP工程の要求を満たす革新的なパッドをうみだしました。      

  • 3M™ CMPパッドコンディショナーは、今日の高度な技術的要求が求められるCMPプロセスに安定した性能を提供します。パッドコンディショナーは、複数のCMP装置メーカーに対応できるサイズをご用意しております。


半導体製造プロセス向け製品カテゴリー

  • ウェーハ仮固定用接着剤
    ウェーハ仮固定用接着剤

    素早く、容易に、より信頼性のある製造方法で、次世代半導体に貢献します。
    3M™ ウェーハサポートシステム(WSS)は、ウェーハの研磨、及びその後のTSVの量産プロセスにおいて実績があります。

  • 窒化ホウ素クーリングフィラー
    窒化ホウ素クーリングフィラー

    これらの微細構造添加剤は、、電子部品からの熱を外部に伝えて放出することで電子機器の「冷却効率」を向上させます

  • 化学製品
    化学製品

    熱伝達、洗浄、表面張力低減によりスループット、パフォーマンス、信頼性を向上させることでコストを削減できる高性能化学製品です。

  • CMP及び精密研磨製品
    CMP及び精密研磨製品

    3M™ CMP及び精密研磨製品は、生産性の向上、高いパフォーマンスを実現します。

  • フッ素ポリマー
    フッ素ポリマー

    耐薬品性および耐熱性を有するシールから高純度のウェーハキャリアまで構成するエラストマーとプラスチックは、汚染物質を減らすように設計されています。

  • エンボスキャリアテープ
    エンボスキャリアテープ

    表面実装用のエンボスキャリアテープ。輸送、保管時、半導体や電子部品を保護し、生産性を向上させます。

  • テストおよびバーンイン用ICソケット
    テストおよびバーンイン用ICソケット

    多用途に対応した製品設計により、テストおよびバーンイン用途で安定したパフォーマンスを実現できます。

半導体製造用の3M™ Novec™ 高機能性液体
  • 半導体製造工程には精密な温度調節・温度管理が要求されます。3M™ Novec™ 高機能性液体を熱伝達媒体(ブライン)として使用することで、必要な性能を得ることができます。


    Novec™ 高機能性液体は絶縁性があるため、メンテナンスが容易にできます。一般的な熱伝達媒体とは異なるメリットを提供します。このNovec™ 高機能性液体は動作温度範囲が広く、コールドプレート冷却、自動テスト、プラズマエッチングおよび成膜装置で多くの実績があります。また作業者の安全性や環境適合性を損なうことがありません。

    3M™ Novec™ 高機能性液体のダウンロード(PDF、79 KB)

  • 効率的な半導体製造装置の洗浄
    半導体製造
    で使用される装置や工具を頻繁かつ徹底的に洗浄し、故障につながる微粒子やその他汚染物質を除去することは、安定的な製造を維持するために不可欠です。


    一般的に使用されるIPAやアセトンなどの溶剤の一部は可燃性であり、適合性の問題でデリケートな材料に損傷を与える可能性があります。水系洗浄工程は不燃性にはなりますが、残留物を残すため、腐食のリスクを増大させる可能性があります。また、それらの不燃性にするためのオプションは、よりコストの高い設備や高い運用コストになる可能性もあります。


    3Mは不燃性の高度な洗浄溶剤を提供することで、お客様のパフォーマンス、安全性、環境のニーズに対応しています。


お客様の用途に最適な半導体製造工程向け製品を選択してください

3Mは、お客様からのご質問に答え、サンプル提供、データの提供などについて、グローバルなサポートを提供します。 是非お問い合わせください。

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